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            美商務部再禁6項新興技術,包括光刻軟件和5nm生產技術

              來源:網易科技      作者:    發布時間:2020-10-26

            1025日消息,美國商務部工業安全局(BIS)又對六項新興技術實施了管控,宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》(EAR)的商務部管制清單(CCL)中。這其中包括了極紫外線(EUV)掩模的計算光刻技術軟件和5nm生產精加工芯片的技術,兩條直指了對芯片的制造的封鎖。

            據了解,目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了37項。美國商務部在官網發布公告中寫道:“此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰略”。

            本次被增列商業管制清單的六項新興技術為:混合增材制造/計算機數控工具、特定的計算光刻軟件、用于為5nm生產精加工晶圓的某些技術、有限的數字取證分析工具、用于監測電信服務通信的某些軟件、亞軌道航天器。

            目前全世界唯一能生產EUV光刻機的企業只有荷蘭ASML公司,而ASML最大的兩大股東資本國際集團和貝萊德集團都是美國公司,其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。美國商務部此舉相當于直接封鎖了高端芯片的制造技術,從目前來看,中國作為美國芯片產品最大的采購國之一,受出口管制影響是巨大的。

            美國實施出口管制的六大技術,都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關,尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產品,EUV光刻機在半導體制程的重要意義可想而知。

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